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等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECV... 等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度，等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備，該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)...
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。該1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)...
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1200℃單溫區(qū)3路浮子供... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)TN-O1200-50IT-3F-HV 由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真...
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