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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):TN-600-3HD
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
TN-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開(kāi)發(fā)的一款性?xún)r(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
詳情介紹:

○ 產(chǎn)品簡(jiǎn)介  

       TN-600-3HD三靶磁控濺射儀是我公司自主研制開(kāi)發(fā)的一款性?xún)r(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。


○ 適用范圍 

       可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。


○ 產(chǎn)品特點(diǎn) 

       1、配置三個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶(hù)需要任意調(diào)換)。   

       2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。   

       3、體積小,操作簡(jiǎn)便。   

       4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買(mǎi)需求。   

       5、可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍。


○ 技術(shù)參數(shù)  

產(chǎn)品型號(hào)   

三靶磁控濺射儀(TN-600-3HD)   

安裝條件   

 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。   

1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)   

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地   

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥   

4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上   

5、通風(fēng)裝置:需要   

主要特點(diǎn)   

1、配置三個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶(hù)需要任意調(diào)換)。   

2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。   

3、體積小,操作簡(jiǎn)便。   

4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買(mǎi)需求。   

5、可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍。   

技術(shù)參數(shù)   

1、電源電壓:220V   50Hz   

2、總功率:2.5KW   

3、極限真空度:<  E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到 E-5mbar)   

4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)   

5、靶槍數(shù)量:3個(gè)   

6、靶槍冷卻方式:水冷   

7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)   

8、直流濺射功率:500W(可選)   

9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)   

10、載樣臺(tái):?140mm   

11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)   

12、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體   

13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,每個(gè)流量為100SCCM   

產(chǎn)品規(guī)格   

主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm,整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg   

標(biāo)準(zhǔn)配件   

  

直流電源控制系統(tǒng)   

2套   

   

  

射頻電源控制系統(tǒng)   

1套   

   

  

膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)   

1套   

   

  

600分子泵組

1臺(tái)   

   

  

工業(yè)級(jí)水冷機(jī)   

1臺(tái)   

   

  

冷卻水管(?6mm)   

4根   

可選配件   

金、銦、銀、白金等各種靶材  


 ○ 免責(zé)聲明 

        本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。泰諾公司產(chǎn)品在不斷更新,網(wǎng)站內(nèi)容可能由于更新不及時(shí),或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,泰諾公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知。 

  

 

 


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