0371-5536 5392 0371-5519 9322
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小型雙靶磁控濺射鍍膜儀 小型雙靶磁控濺射鍍膜儀設(shè)備配有一個(gè)直流電源一個(gè)射頻電源，直流靶可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射，射頻電源可用于各種非金屬和...
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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜，該帶偏壓...
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UPS三靶磁控濺射真空鍍膜... UPS三靶磁控濺射鍍膜儀體積小，操作簡(jiǎn)便，是實(shí)驗(yàn)室制備材料膜的理想鍍膜設(shè)備，UPS三靶磁控濺射鍍膜儀采用UPS16節(jié)電池...
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500W RF 500W ... 500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀是高速低溫濺射鍍膜儀,該500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀...
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桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜... 桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比真空PVD鍍膜設(shè)備。桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀用于金屬薄膜的制...
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單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的真空鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。該單靶直流磁控濺射鍍膜儀 15...
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單靶射頻磁控濺射鍍膜儀 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學(xué)膜的濺射...
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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比真空PVD鍍膜設(shè)備，雙靶直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)置兩個(gè)500W直流電源，...