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雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)，雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀兩個(gè)300W射頻電源，射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個(gè)...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比真空實(shí)驗(yàn)室PVD鍍膜設(shè)備，雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
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三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。三靶直流磁控濺...
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三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比真空PVD鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。三靶射頻磁控...
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三靶磁控濺射鍍膜儀（DC&... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
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靶下置型雙靶DCRF磁控濺... 靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀的采用靶下置布局，樣品臺(tái)在上方，靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有直流和射頻雙電源...
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往復(fù)樣品臺(tái)雙靶DCRF磁控... 往復(fù)樣品臺(tái)雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，往復(fù)樣品臺(tái)雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀采用...